Descripción:

En este laboratorio se realiza la fabricación de dispositivos fotónicos y optoelectrónicos basados en estructuras complejas a escalas micro y nano-métricas. El desarrollo de estos dispositivos se basa en tecnología planar de microelectrónica y electrónica flexible que incluye técnicas de depósito de películas delgadas, procesos de fotolitografía, grabado húmedo y seco en sustratos de polímero y silicio. Los desarrollos de este laboratorio están enfocados en brindar soluciones en distintas áreas de investigación como en energía, salud y telecomunicaciones dando la posibilidad de ofrecer aplicaciones a la industria o usuarios externos.

Técnicas:

Fotolitografía por medio de mascarillas, depósito de películas delgadas, grabados/ataques húmedos y secos.

Equipo:

• Alineadora de mascaras
• Ataque o grabado seco
• Bahías de ácidos, bases y solventes
• Pulverización catódica
• Depósito de capas atómicas
• Evaporación mediante cañón de electrones
• Centrífuga para depósito
• Baño de ultrasonido
• Parrillas digitales con agitadores
• Hornos de alta temperatura atmosfera controlada

Responsables del laboratorio:

DTI (Dirección de Tecnología e Innovación)
Correo: direccion.tecnologica@cio.mx